石英掩模版（Quartz Mask）以高纯石英玻璃为基材，石英玻璃具有高透过率、高平坦度、低膨胀系数等优点，同时成本较高，通常应用于高精度掩模版产品。石英掩模版主要在半导体应用领域内使用，包括模拟IC、各种分立器件、MEMS以及平板显示等。
公司可提供多种尺寸和规格的光罩产品，制作精度覆盖130nm、180nm、250nm、350nm、500nm及以上芯片工艺节点，具体如下表所示：
| ITEM | Rank | S | Y | A | B | C | D | E | F | G | H | I |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Design Rule | (μm) | ＞5 | 2-5 | 1-2 | 1 | 0.8 | 0.5 | 0.35 | 0.25 | 0.18 | 0.15 | 0.13 |
| CD Tolerance | (±μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.075 | ±0.05 | ±0.04 | ±0.03 | ±0.025 | ±0.02 |
| CD Range | (μm) | ≤0.5 | ≤0.3 | ≤0.2 | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.07 | ≤0.05 | ≤0.04 | ≤0.035 | ≤0.03 | ≤0.025 |
| CD mean to target | (μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.07 | ±0.04 | ±0.03 | ≤0.03 | ±0.02 | ±0.02 |
| Registration & Overlay | Based on the 1st layer(μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.12 | ±0.10 | ±0.07 | ±0.05 | ≤0.04 | ±0.03 | ±0.02 |
| Defect | Defect size(μm) | ＜4 | ＜2 | ＜1.0 | ＜1.0 | ＜0.75 | ＜0.5 | ＜0.4 | ＜0.3 | ＜0.3 | ＜0.25 | ＜0.20 |
